Vielseitig und kostengünstig
Der 50W Femtosekundenlaser FemtoLux ist ein vielseitiges und kostengünstiges und Werkzeug mit hoher Performance, dass speziell für die Anforderungen der Mikromaterialbearbeitung entwickelt wurde.
Zum einen bietet das Lasersystem ultra-kurze Pulse (UKP) bis in den Femtosekundenbereich, mit hoher Pulsenergie und Strahlqualität. Diese sind insbesondere bei der hochpräzisen Bearbeitung spröder Materialien wie Glas, Keramik und Metall von Bedeutung, bei denen eingebrachte Wärme durch längere Laserpulse (wie z. B. Nanaosekundenpulse) zu Kratern, Mikrorissen und Absplitterungen führt. Darüber hinaus erzielt die Bearbeitung mit der UKP-Strahlung des FemtoLux eine äußerst hohe Oberflächenqualität.
Zum anderen ist das Lasersystem mit der flexibelsten auf dem Markt erhältlichen Burst-Technologie ausgestattet. Die Forschung der letzten Jahre hat gezeigt, dass sich die Abtragrate für viele Materialien deutlich steigern lässt, ohne die Prozessqualität negativ zu beeinflussen, wenn anstelle des Einzelpulsmodus die Laserpulse in Bursts (Pulspakete) aufgeteilt werden. Das ist insbesondere bei industriellen 24/7 Anwendungen von großer Bedeutung. So können Abtragsgeschwindigkeit und Prozessqualität durch Variation der Energieverteilung, also gezieltes Setzen der Burst-Einstellung, stark beeinflusst werden. Damit können Industrieprozesse wie Bohren, Schneiden oder Oberflächenstrukturierung optimiert und individuell angepasst werden.
Einzigartige Technologien
Einzigartig an den Burst-Modi des FemtoLux ist dabei die integrierte Active-Fiber Loop Technologie, die bis zu 1100 Pulse im GHz-Burst und bis zu 10 Pulse im MHz-Burst, sowie kombinierte MHz- und GHz-Bursts ermöglicht. Zudem ist die Pulsform der GHz-Bursts einstellbar.
Der FemtoLux liefert im Einzelschussbetrieb bis zu 300 µJ bei einstellbarer Pulswiederholrate von Einzelschuss bis hin in den MHz Bereich. Dies mit einstellbarer Pulsdauer von <350 fs bis 1 ps. Im Burst-Modus sind sogar bis zu >750µJ Gesamtpulsenergie verfügbar. Alternativ ist auch eine Hoch-Energie-Ausführung mit 1mJ bei 10kHz Wiederholrate und fixer Pulsdauer erhältlich. Der Laser verfügt über Pulse-on-Demand mit Jitter <20 ns. Dies ermöglicht einen konsistenten und äquidistanten Pulsabstand in der Mikromaterialbearbeitung sowie anpassbare Repetitionsraten für die Realisierung von komplexen Geometrien. Dabei bietet die Laserstrahlung ein M2 < 1,2. Um eine Nutzung der Laserstrahlung für ein breites Feld unterschiedlicher Materialien zu ermöglichen, kann das Lasersystem mit zweiter (515nm) und dritter (343nm) Harmonischer ausgestattet werden.
Das Lasersystem ist zudem mit einem Direct Refrigerant Cooling System (CRE) ausgestattet, einer innovativen Kühlung auf Basis einer Kompressionskältemaschine, die den Stromverbrauch im Vergleich zu herkömmlichen Wasserkühlern um fast 50% senkt und Arbeiten und Kosten für die Instandhaltung für das Kühlsystem ausschließt.
